- 产品描述
- 技术指标
- 应用案例
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产品型号：
E-Beam-UHV
产品简介：
该电子束蒸发系统可以在超高真空环境下实现精确的多层薄膜制备，线性电子束枪可实现多种材料的蒸发，设备可选配考夫曼离子源实现晶圆的预清洗，可用于超导量子等领域，适用于高校及企业研发和小规模生产场合。
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晶圆尺寸
4inch-8inch
极限真空
优于1×10-9mbar
温控
RT-800℃
电子束枪
超高真空线性运动电子束枪，可选配坩埚数量和容量 （标配，10KW，6×15cc）
晶圆清洗
可选配考夫曼离子源实现晶圆清洗
清洗均匀性
例：4inch晶圆优于±3%
控制系统
PC+PLC，全自动操作与安全互锁
样品台
180度倾斜，360度旋转，可选升降与偏压
膜厚测量
膜厚仪，可伸缩
占地面积
3m L* 2m W * 2m H
可选
低温泵、自动传输、工艺菜单等
六大特色 懂你所需
企业/高校性能之选
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测试案列
随着超导量子计算的发展，高校实验室和企业对于超导量子电路的核心器件——约瑟夫森结有着极高的制备要求。该设备可专门用于制备Al基、Nb基等各类约瑟夫森结，以下是制备的约瑟夫森结的光学照像。
约瑟夫森结的光学图像
温度测试
下图是加热台温度测试图，加热台可以实现最高800摄氏度的晶圆加热，并且电子束蒸发过程中温升较低，满足不同材料的沉积需求。
电子束蒸发系统
合作意向表
应用行业
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